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自动匹配器

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自动匹配器用于真空镀膜、等离子刻蚀、等离子清洗、物理气相沉积,化学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备PECVD等设备当中,主要功能是实现全自动匹配,解决了现在国内真空镀膜设备中的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准确,节省人力和时间等特点。可选的射频系统检测模块可实时检测出系统的正反功率、驻波比、射频信号峰值电压、电流、直流偏置电压等,从而使您能够发现并显著降低制程变化性。

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    • 产品描述
      • 商品名称: 自动匹配器

      自动匹配器用于真空镀膜、等离子刻蚀、等离子清洗、物理气相沉积,化学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备PECVD等设备当中,主要功能是实现全自动匹配,解决了现在国内真空镀膜设备中的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准确,节省人力和时间等特点。可选的射频系统检测模块可实时检测出系统的正反功率、驻波比、射频信号峰值电压、电流、直流偏置电压等,从而使您能够发现并显著降低制程变化性。

      产品介绍

        自动匹配器用于真空镀膜、等离子刻蚀、等离子清洗、物理气相沉积,化学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备PECVD等设备当中,主要功能是实现全自动匹配,解决了现在国内真空镀膜设备中的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准确,节省人力和时间等特点。可选的射频系统检测模块可实时检测出系统的正反功率、驻波比、射频信号峰值电压、电流、直流偏置电压等,从而使您能够发现并显著降低制程变化性。

       

      产品性能

      • 针对性的匹配网络,确保匹配范围满足负载应用。
      • 性能安全可靠,长时间工作稳定。
      • 实时反射功率测量与控制;
      • 优化设计、安装、使用与维修简便。
      • 传输效率高,运行噪音小。
      • 屏蔽效果好,确保操作人员安全。
      • 可外接匹配控制盒,与其他射频功率发生器配合使用。

       

      产品优势

      • 加强了镀膜与刻蚀工艺的控制。
      • 优化的匹配算法加速匹配时间
      • 优化设计最大限度地减少驻波比与反射功率
      • 严格的可靠性测试与完善质量体系监控
      • 针对客户的负载特性设计匹配的阻抗网络 ,确保设备稳定运行
      • 完善生产加工体系,可根据客户设计定制。
      • 可外接匹配控制盒,与其他射频功率发生器配合使用。

       

      ZY/RFNA 射频匹配器型号规格

      型号

      300W

      500W

      600W

      1000W

      1500W

      2000W

      信号频率

      13.56MHz±0.005%

      功率输出范围:W

      0-300

      0-500

      0-600

      0-1000

      0-1500

      0-2000

      匹配后最大反射功率:W

      ≤2W

      ≤2W

      ≤2W

      ≤5W

      ≤10W

      ≤10W

      射频匹配器输出接口

      UHF/ 7/16 /铜带

      功率稳定度

      ≤2W

      ≤5W

      匹配速度

      ≤3S

      供电电压:50/60Hz

      单相交流(187V-253V)

      整机效率:≥%

      ≥90%

      冷却方式

      强制风冷

      强制风冷+水冷

      整机重量:kg

      6.5±0.5

      9±0.5

      9±0.5

      11±0.5

      13±0.5

      13±0.5

      电源尺寸:H x W x D(mm)

      132*275*369

      142*320*414

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