中频溅射电源方波系列
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双阴极溅金属或半导体材料， 特别适合于反应磁控溅射、氧化物、氮化物、碳化物膜层，增加离化率
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- 产品描述
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- 商品名称: 中频溅射电源方波系列
双阴极溅金属或半导体材料， 特别适合于反应磁控溅射、氧化物、氮化物、碳化物膜层，增加离化率
功率等级:20KW-120KW
产品应用
双阴极溅金属或半导体材料， 特别适合于反应磁控溅射、氧化物、氮化物、碳化物膜层，增加离化率
产品特点
- 主回路拓扑采用PFC+SiC组成全桥架构， 结合DSP+FPGA数字控制技术;
- 恒功率 /恒流 模式切换 恒功率模式更能保证镀膜工艺的重复性;
- 内置Arc 25μs-500μs设置，适应不同的工艺及靶材，打弧累计计数查询;
- 同时检测 V-Arc & I-Arc 快速切断输出,同时启动内置专利技术消除残余电弧能量，避免阴极及基片打弧，确保高精膜层;
- 超宽的负载匹配能力，定制输出电压50V-1KV,电流100mA-300A;频率1-200KHZ;
- 一流的可靠设计，目前市场上已有3万台不同等级功率在Low-E镀膜玻璃及PVD和PECVD镀膜设备上24小时稳定运行;
- 主动操作面板，通讯配置模拟量/RS485/Profibus/EtherCAT及英国GENCOA Speedflo气体控制器专用接口;
- 物理尺寸及电气协议：兼容德国或美国知名品牌电源通讯协议，实现0成本替换。
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